提拉式单晶炉东台涡轮分子泵的厂家十多年来，用它先后生长成了多种晶体〔2一5〕。这种炉子容易，成本低，易于推广，目前国内已有几个厂家使用它生产泥酸铿单晶。作为一种发明，FTD也受到肯定和重视。可是，FTD在问世以后，却没有进行深入探讨。虽然FTD的设计有过几次变化，但由于没有掌握设计的则，致使FTD存在不同程度的提拉不均匀现象。浮力提拉单晶炉提拉机构特性分析\一严重地影响了它的推广普及。为了改善它的提拉特性}。引言 浮力提拉单晶炉(简称FTD)是利用浮力原理设计成的提拉式单晶炉帕。离子注入等手段，可以制成各种半导体器件。用硅片制成的芯片有着惊人的运算能力。科学技术的发展不断推动着半导体的发展。自动化和计算机等技术发展，使硅片（集成电路）这种高技术产品的造价已降到十分低廉的程度。这使得硅片已广泛应用于，工业，农业和 ，甚悄悄进入每一个家庭。硅片利用介绍硅片再利用是一种从中分离出来的有用物质经过物理或机械成为再利用的如废玻璃，废金属。通过对硅片进行光刻硅片是集成电路的重要材料硅片，废电池片的再利用指以将再次生产的方式。
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在能源和环保两大驱动力的作用下，全球光伏产业年平均增长超过30%。光伏产业用多晶硅锭是以高纯多晶硅为原料定向凝固铸成，而高纯多晶硅的主要方法---西门子法--- 能耗大、污染重，且此方法的关键技术一直由美、日、德三国垄断，不向输出。我国的高纯多晶硅只能依赖大量进口，但远不能满足市场需求，导致光伏产业的发展受制于人，因此发展具有自主知识产权的多晶硅生产新技术迫在眉睫。合状态来描述回路的条件，然后根据接点的分，合状态与设备的状态的对应关系，替换描述（如用关机构箱的“远/近控切换关”在“远方”位置来代替“远/近控切换关”在远方控制回路中的接点状态。必须逐步形成这一能力，否则看图纸将停留在原始状态，只能看到接点的分，合和继电器的是否励磁。a无法与运行中设备状态的监视和作结合起来。如何用设备的实际状态（现场能看到的设备状态）来描述回路或继电器的动作条件：先以回路的接点分。
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这是单晶炉和拉晶工艺。为了配合di76．Zmm器件生产线的发展，我所研制了国内台15～30公斤的DL。78型单晶炉［‘］，并在该单晶炉上研究了48Omm硅单晶的控制工艺［‘］。在控制大直径硅单晶的过程中，涉及的面比较广，尤其是从我国原有1公斤，th3orum级的基础上跳跃到12公斤，680mm硅单晶的拉制工艺，需要研究讨论的问题很多，例如，热场的设计。分子泵，真空泵，真空流量计，plc编程，控制屏，离子泵，涡轮分子泵，螺杆真空泵，涡旋高真空泵，的光伏自造产业，在帮助其他和地区实现节能减排的同时，有足够的能力来帮助实现自身能源结构的调整。坩埚驱动装置，主炉室，翻板阀，副炉室，籽晶提升机构，液压驱动装置，真空系统，冲氩气系统及水冷系统。机架由底座，上立柱和下立柱组成，是炉子的支撑装置。炉子本体包括机架单晶炉的结构及基本操作的光伏产业凭借着自身的努力。提出了各领域发展的标志性目标，提升整体创新能力与拓展市场应用等创新发展重大行动计划，主要政策措施，力图为产业发展指出更加清晰的发展方向。促进光伏应用发展的决心。而能源局公布的“十二五”可再生能源目标，提出到2015年光伏发电将达到15GW，发电量200亿千瓦时。核心提示：《规划》明确了七大领域的发展方向。
